據蠟像制作的小編了解，紀念館展覽設計是展覽工作的重要組成部分，但不是展覽工作的全部;必須明白展覽藝術(shù)就是用具體手段表現抽象的展覽意圖，而后不能因藝術(shù)抹殺展出功能。那么紀念館設計應遵守的哪些原則?

紀念館設計應遵守的原則：

一、藝術(shù)性原則

展覽設計應當有藝術(shù)性展臺富有吸引力，令人賞心悅目，給人良好的感覺(jué)，使其留下深刻的印象。展臺設計有很多因素，需要用藝術(shù)手法去組合這些因素，使其能產(chǎn)生最佳的視覺(jué)效果和良好的心理效應是紀念館展覽設計的基本要求。

二、目的性原則

紀念館展覽策劃起始于展覽目標的選擇，落實(shí)于展覽目標的實(shí)現，體現在每一個(gè)設計的細節。展覽目標統領(lǐng)著(zhù)展覽策劃的方向和內容，從而使展覽活動(dòng)能夠有的放矢。當然，展覽目標的選擇也并非隨意而為，它也是科學(xué)策劃的結果，從這個(gè)意義而言，現代展覽設計具有明確的目的性。

三、功能性原則

紀念館展覽設計還應當是功能性的，設計人員在考慮設計外部形式、形象時(shí)，也需要考慮內在功能，也就是要為展臺的人員和展臺工作提供良好的環(huán)境和條件。這是許多非專(zhuān)業(yè)展覽設計人員甚至個(gè)別專(zhuān)業(yè)展覽設計人員常常忽略或者不重視的因素。